일본 스미토모케미칼(SCC: Sumitomo Chemical)이 반도체용 포토레지스트 사업을 확대하고 있다.
스미토모케미칼은 불화아르곤(ArF), EUV(극자외선) 등 첨단 반도체 제조용 포토레지스트 라인업을 전방위적으로 확충하고 첨단 반도체용 레지스트 점유율 20% 달성을 목표하고 있다. 
액침 ArF 레지스트 영역에서는 포지티브와 네거티브의 특징을 접목시킨 신제품으로 시장을 공략할 계획이다. 차별화제품을 통해 시장을 확대하려는 의도로 해석된다.
일반적으로 포지티브형 레지스트는 알칼리 현상액을 이용한다. 알칼리 현상 방식은 환경부하 저감과 코스트다운에 이점이 있으며 네거티브형 레지스트는 특정한 패턴 성형에 유리하다.
EUV 레지스트는 기존제품과 차세대 신제품