2026년 08월 06일 (목)
TOK, EUV 프로세스용 MOR 양산 “시동”

2027년 생산 목표로 콘택트 홀 개척 … AI 반도체 공급 확대 대응

강윤화 책임기자
화학뉴스 2026.05.22

TOK가 2027년 EUV(극자외선) 프로세스용 금속산화물 포토레지스트(MOR) 양산 개시를 선언했다.
반도체 기기는 포토마스크 원판에 그려진 회로 패턴에 자외선을 조사해 실리콘(Silicon) 웨이퍼 위에 축소 전사(리소그래피)하는 작업을 반복함으로써 소자와 배선을 형성한다.
포토레지스트는 감광성 소재로 작용하며 실리콘 웨이퍼 위에 도포한 회로 패턴을 전사하는 데 사용하고 크게 빛을 받은 부분만 용해되는 포지티브과 경화되는 네거티브형으로 구분한다.
반도체 성능 향상에 기여하는 미세화는 광원의 단파장화를 통해 실현하고 있다.
1980년대 g선(파장 436나노미터), i선(365나노미터)에서 1990년대 KrF(불화크립톤: 248나노미터), 2000년대 ArF(
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[게시일 2011년 2월1일]

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