화학특허 해외출원 비용도 지원
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특허청, 핵심기술 건당 300만원에서 1100만원으로 … 1차 3건 확정 정부가 화학을 비롯한 중소기업의 해외특허 취득비용 일부를 지원한다.특허청은 국제특허 출원 촉진을 위해 핵심기술 분야의 해외출원비용을 건당 300만원에서 1100만원으로 지원한도를 확대하는 방안을 마련하고 6월부터 시행한다고 5월31일 발표했다. 1인당 지원한도는 개인과 중소기업은 3건, 대학 및 연구기관은 10건 이내이다. 이에 따라 1차 대상자로 선정된 연세대 박용수 교수에게 5880만원, 한국과학기술원 이상엽 교수와 성단근 교수에게는 각각 5800만원과 1700만원 등 모두 1억3380만원을 지원할 예정이다.
2006년까지 모두 7144건의 우수기술을 발굴하고 모두 113억8000만원을 지식재산권 해외 권리화 비용으로 지원했다. 선정기준은 특허등록의 가능성(신규성ㆍ진보성), 특허기술의 경쟁력, 파급성, 독창성 등 우수성, 특허기술의 실용화 가능성, 시장성, 확산성 등 활용성이며, 선정절차는 신청기술에 대해 특허청 심사관의 기술성 평가와 분야별 전문가로 구성된 선정위원회의 심의를 거쳐 최종 지원대상자를 선정한다. 표, 그래프: | 핵심기술 해외툭허 출원비용 지원현황 | <화학저널 2007/06/1> |
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