삼성전자, 화성에서 또 불산 누출
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오전 11시30분께 배관교체 중 발생 … 작업자 3명 병원으로 이송
화학뉴스 2013.05.02
삼성전자(대표 권오현·윤부근·신종균) 화성사업장에서 불산(불화수소산: Hydrogen Fluoride) 누출사고가 또 발생했다.
 5월2일 오전 11시30분께 경기도 화성시 삼성전자 화성사업장 반도체 생산 11라인 중앙 화학물질 공급장치(CCSS)에서 불산액 배관 교체작업 중 불산이 소량 누출됐다. 사고로 작업자 3명이 병원으로 옮겨진 것으로 알려졌다. 부상자 중 1명은 피부에 일부 발진이 있지만 부상자 3명 모두 경미한 상태라고 삼성전자 관계자는 밝혔다. 삼성전자는 1월에도 불산 누출사고가 발생한 바 있다. <저작권자 연합뉴스 - 무단전재․재배포 금지> <화학저널 2013/05/02> |
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