화학뉴스

국내 포토레지스트(Photoresist) 시장이 성장세로 전환되고 있다.
디스플레이뱅크에 따르면, 국내 반도체용 포토레지스트 시장규모는 2011년 2억4800만달러에서 2012년 2억4000만달러로 축소된데 이어 2013년에도 2억2000만달러로 줄어들 것으로 예상되고 있다.
그러나 반도체 프로세스 미세화의 영향으로 2014년 이후 극자외선(EUV) 광원을 이용한 미세화 기술이 도입됨에 따라 고가인 EUV 포토레지스트 채용이 증가해 2015년 2억5000만달러에 달할 것으로 전망된다.
수요량은 크게 증가하지 않지만 판매액은 연평균 5% 이상 신장할 것으로 예측되고 있다.
포토리소그래피(Photolithography)는 반도체, 액정디스플레이 등을 제조할 때 사용되며, 반도체 메모리 프로세스에서는 생산코스트의 30%, 생산시간의 60%를 차지하고 있다.
포토레지스트는 반도체 공정의 미세화를 위한 핵심소재로 JSR, TOK, Dow Chemical, Shin-Etsu Chemical, Sumitomo Chemical, AZEM 등이 생산하고 있다.
반도체 분야에서는 최첨단 프로세스를 보유하고 있는 삼성전자에 공급하는 것이 보증서와 같이 여겨지고 있어 메이저들은 삼성전자 공략에 힘을 기울이고 있다.
현재는 ArF(Argon Fluoride) 레이저를 이용한 리소그래피가 주류를 이루고 있어 상대적으로 가격이 높은 ArF용 레지스트 수요가 증가하고 있다.
탑코팅제, 조사광 반사를 억제하는 반사방지 코팅제 등도 수율 향상을 위해 사용량이 증가할 것으로 예상되고 있다. <정세진 기자>