삼성전자, 시안 반도체 5월 가동
총 70억달러 투입 … 10나노 및 3차원 수직구조 낸드플래시 생산
화학뉴스 2014.03.26
삼성전자(대표 권오현)는 중국 Xian 반도체 공장을 2014년 5월 준공한다.
김기남 삼성전자 DS부문 메모리사업부 사장은 3월26일 서울 삼성전자 서초사옥 로비에서 기자들과 만나 해외 2번째 반도체 공장인 중국 Xian 공장을 착공 1년 8개월만인 2014년 5월 준공한다고 말했다. 삼성전자는 Xian 반도체 공장 건설에 총 70억달러를 투자한 것으로 알려졌으며 역대 중국 투자금액 가운데 최대이다. Xian 공장에서는 10나노 및 3차원 수직구조 낸드플래시 메모리를 생산할 것으로 알려졌다. 한편, 김기남 사장은 D램과 낸드플래시 영업실적과 관련한 질문에 “2014년 1/4분기 영업실적은 나쁘지 않을 것으로 예상한다”며 “다만, 2/4분기에는 더 지켜봐야 할 것”이라고 말했다. <화학저널 2014/03/26> |
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