GE Toshiba, 중국시장 공략 박차
2007년 2만톤 플랜트 완공 … No.4 프로젝트에 총 7800만달러 투자 GE Toshiba Silicones이 중국시장 공략을 가속화하고 있다.GE와 Toshiba는 2006년 1월17일 중국 Jiangsu의 Nantong 소재 No.4 실리콘(Silicone) 플랜트 건설에 합의했으며 총 투자액은 7800만달러(6억4740만위안)에 달할 것으로 나타났다. GE Toshiba는 이미 Shanghai, Songjiang, Shenzhen 소재 실리콘 플랜트를 운영하고 있으며 Shanghai에는 미국, 인디아, 독일에 이어 글로벌 연구개발센터도 설립된 것으로 파악되고 있다. GE Toshiba의 최신 프로세스가 채택될 실리콘 플랜트의 생산능력은 2만톤으로 GE Toshiba의 중국 소재 플랜트 중 최대의 실리콘 생산능력을 보유하며 2007년 말 완공될 것으로 알려졌다. <화학저널 2006/03/17> |
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