포스텍, 열처리·용매처리 생략 … 웨어러블기기 고집적화 활용
화학뉴스 2015.09.15
국내 연구진이 차세대 나노 크기의 패터닝 공정에 응용할 수 있는 별 모양의 고분자 조합체를 이용한 유도자기조립 리소그라피 기술을 개발했다.포스텍은 화학공학과 김진곤 교수팀과 서울대 화학생물공학부 이원보 교수팀이 열처리 및 용매처리 과정 없이 나노구조를 기판 위에 수직으로 배열할 수 있는 기술을 개발했다고 9월14일 발표했다. 신기술은 나노구조 수직화에 사용해온 복잡한 과정을 생략해 차세대 노광 기술인 극자외선을 이용한 기술보다 생산비용이 저렴할 뿐만 아니라 20나노미터 이하의 세밀한 공정도 가능한 것으로 알려졌다. EU(유럽연합) 컨소시엄이 2014년 블록공중합체의 유도자기조립 기술을 산업화화기 위해 60억원 상당의 프로젝트를 시작할 정도로 관심이 집중되고 있다. 연구팀은 기존 블록공중합체 모양을 선형 형태에서 별 모양으로 설계해 기판 표면이 자발적으로 중성화함으로써 금속, 반도체, 고분자 기판 등에서 나노구조를 수직으로 형성할 수 있었던 것으로 알려졌다. 김진곤 교수는 “점차 작아지는 반도체에 필요한 복잡한 공정이나 높은 생산비 없이도 손쉽게 나노패턴을 만들 수 있도록 하는 기술”이라며 “차세대 반도체용 패터닝 공정 뿐만 아니라 구부러지는 기판에도 적용이 가능해 웨어러블 스마트기기의 고집적화에도 도움이 될 것”이라고 밝혔다. <화학저널 2015/09/15> |
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