삼성반도체, 기흥사업장 황산 누출
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11월3일 배관 교체작업 중 200cc 새 … 협력기업 직원 1명 화상 화학뉴스 2015.11.04
11월3일 오후 3시50분 삼성전자 기흥 사업장에서 황산이 누출돼는 사고가 발생했다.
삼성전자 기흥캠퍼스 반도체 생산라인의 중앙화학물질공급장치(CCSS)에서 협력기업 직원 정모(25)씨가 배관 교체작업 준비를 위해 사진 촬영을 하던 중 넘어지면서 배관과 밸브를 건드려 황산 200cc 가량이 누출됐으며, 정씨는 얼굴‧목 등에 1-2도 화상을 입어 병원으로 옮겨져 치료를 받았다. 정씨는 당시 보호복, 안면보호장구 등 안전장구를 착용하고 있었으나 넘어지면서 보호장구가 벗겨져 얼굴을 다친 것으로 알려졌다. 삼성반도체 관계자는 “자체 소방대를 통해 정씨에 대한 응급조치와 함께 방제작업을 완료했다”며 “고용노동부, 한강유역환경청 등 관련기관에도 사고 사실을 알리고 경위에 대해 자체 조사하고 있다”고 밝혔다. 이어 “배관이나 밸브가 파손된 것이 아니라 밸브가 잠시 열리면서 황산 용액이 소량 흘러나와 생긴 사고이기 때문에 반도체 생산라인에 별다른 지장은 없다”고 덧붙였다. 경찰은 작업과정에서 안전규정을 위반한 점이 있는지 등 정확한 사고 경위를 조사하고 있다. |
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