화학뉴스

포토레지스트는 반도체 미세화를 타고 수요가 급증할 것으로 기대되고 있다.
스미토모케미칼(SCC: Sumitomo Chemical)은 최근 오사카(Osaka) 공장에서 액침 ArF(불화아르곤), EUV(극자외선) 등 첨단 반도체 프로세스용 포토레지스트를 증설하기로 결정했다.
2022년 상반기 상업가동을 목표로 10억엔 수준을 투자해 오사카 공장의 생산능력을 4배, 한국공장을 포함한 전체 생산능력은 50% 확대할 계획이다.
오사카 공장은 10여년 전부터 포토레지스트를 생산하고 있으며 2019년 액침 ArF를 중심으로 한 신규 플랜트를 건설한 바 있다.
증설은 2019년 건설한 플랜트에서 진행할 예정이며 현재 개발하고 있는 CMOS 이미지 센서용 후막 ArF 레지스트도 생산하는 것으로 알려졌다.
반도체 시장은 5G(5세대 이동통신) 스마트폰 증가와 재택근무로 컴퓨터, 데이터센터 수요가 증가하며 연평균 6% 성장이 기대되고 있고 액침 ArF 레지스트 수요는 10% 이상, EUV 레지스트는 30% 이상 급증할 것으로 예상되고 있다.
스미토모케미칼은 반도체 미세화 공정에 사용하는 액침 ArF 레지스트 시장에서 높은 점유율을 확보했으며 최첨단 EUV 레지스트는 후발주자이지만 채용실적 및 출하량을 꾸준히 확대하고 있다.
앞으로 2023-2024년경 시장이 본격적으로 형성되면 2025년 전후로는 전체 생산제품 가운데 EUV용이 차지하는 비중이 상당수준을 차지할 것으로 예상하고 있다.
오사카 공장은 2022년 상반기 완공을 목표로 품질관리 강화 및 개발 효율 향상을 위한 신규 클린룸 건설, 평가장치 도입을 추진하고 있다.
최근 3년 동안 1000억엔 이상을 투자했고 일부는 일본 경제산업성의 서플라이 체인 대책을 위한 투자 촉진 사업비 보조금 지원을 받은 것으로 알려졌다.
스미토모케미칼은 한국에서도 포토레지스트를 생산하고 있으나 첨단제품은 일본에서만 공급하고 있다.
그러나 SK하이닉스, 삼성전자 등 주요 수요기업 인근에서 생산하는 것이 중요해지고 있어 한국공장 투자 가능성도 열어두고 있다. (K)