2026년 07월 26일 (일)
포토레지스트, 개발경쟁 이제는 “속도전”

스미토모화학, 2027년 기술동 건설 … 차세대 EUV 점유율 확대 목표

윤우성 선임기자
화학뉴스 2026.05.11

일본 스미토모화학(Sumitomo Chemical)이 포토레지스트 개발 능력을 강화한다.
스미토모화학은 2026년 4월 초 포토레지스트 사업의 중추인 오사카(Osaka) 공장에 첨단 반도체 제조용 EUV(극자외선) 및 액침 불화아르곤(ArF) 포토레지스트 개발제품의 생산 프로세스 검증부터 품질 테스트, 분석까지 통합 수행하는 기술동을 건설한다고 밝혔다. 
성장동력인 첨단 반도체 소재 사업에서 수요기업의 품질 요구가 빠른 속도로 고도화되는 가운데 신속하게 개발에서 양산으로 이행할 수 있는 체제를 갖추기 위해 생산능력 뿐만 아니라 기능 강화에도 자원을 투입하는 것으로 풀이된다. 
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[게시일 2011년 2월1일]

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