공해물질 처리기술 개발 활성화
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산업계에서 유해가스 처리장치 소형화와 유해가스 동시제거를 요구하는 가운데 저온 플라즈마를 이용한 SOx(황산화물), NOx(질소산화물), VOCs(휘발성 유기화합물) 등의 공해물질 처리기술에 대한 연구·개발이 활발히 진행되고 있다. 유해가스 배출허용 기준을 강화하는 국제적 추세에 따라 규제되는 공해물질의 종류와 규제대상 공정이 다양화, 소형화되고 있는데 따른 것이다. 특허(실용신안 포함) 출원에 있어서는 1994년을 기점으로 관련기술 분야의 출원이 급증해 1997년 86건으로 피크를 형성했으며, 1998년 이후 IMF 여파에도 불구하고 꾸준히 출원되고 있다. LG전자, 삼성전자, 고등기술연구원, 포항제철 등 대기업과 정부출연 연구소를 중심으로 출원을 주도하고 있다. 표, 그래프: | 저온 플라즈마를 이요한 유해가스 처리기술 출원동향 | <화학저널 2001/07/02> |
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