중국, 고순도 Dichlorosilane 50톤 증설
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2006년 가동 예정 … Catalysis-Disproportionation 프로세스 채용 결정 중국 Hennan Xinyang Guoshun Silicon Photoelectric Gas가 8월28일 고순도 Dichlorosilane 50톤 프로젝트의 착공식을 거행했다.Beijing Yuantai Investment Management 등이 프로젝트 투자에 참여했으며 투자규모는 총 6363만元에 달한다. 2005년 2/4분기 시범생산에 들어가며 정식 가동시기는 2006년이다. 고순도 Dichlorosilane 생산능력 50톤을 비롯해 고순도 Trichlorosilane 100톤 및 고순도 Tetrachlorosilane 100톤 플랜트도 건설될 예정으로 총 판매수익은 약 9000만元에 달할 것으로 예상되고 있다. Hennan Xinyang의 고순도 Dichlorosilane 프로젝트는 자체적으로 지적재산권을 보유하고 있는 Catalysis- Disproportionation 프로세스를 채용할 계획으로, Catalysis-Disproportionation 프로세스는 반응온도가 낮고 원료구조가 단순하며 코스트가 낮은 장점이 있다. 자동통제시스템 역시 프로젝트에 도입됐으며 제품 순도는 99.99%, 저항률(Resistivity)은 약 250에 달한다. 미국, 일본, 영국, 프랑스 및 독일이 유일하게 고순도 Dichlorosilane을 배치(Batch) 생산할 수 있기 때문에 다른 지역은 수입의 의존하고 있다. 고순도 Dichlorosilane 수입가격은 kg당 1만2000-1만5000元대에 달하며 일반적으로 납품기간이 길다. 중국의 고순도 Dichlorosilane 수요는 약 80톤에 달하며, 동남아는 약 200톤, 세계수요는 약 800톤에 달하고 있다. 고순도 Dichlorosilane 수요는 해마다 증가하고 있다. 중국 고순도 Dichlorosilane 시장은 수입을 대체할 수 있을 뿐만 아니라 저코스트 및 고품질을 무기로 국제시장에서도 이익을 보고 있다. <화학저널 2004/10/08> |
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