Merck, 차세대 OLED 기술개발
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광미세가공기술 활용 해상도 높여 … 국내 기술특허 점유율 확대 Merck와 Cologne 대학이 공동으로 OLED(Organic Light-Emitting Diode) 디스플레이 신기술을 개발했다.공동개발팀은 세계 최초로 직접 광미세가공기술(Direct Photolithography)을 활용한 OLED 디스플레이를 개발해 6월 개최된 미국 SID(Society for Information Display) 심포지움에서 연구결과를 공개한 것으로 알려졌다. 직접 광미세가공기술은 기존의 잉크젯 프린팅(Ink-Jet Printing) 공법보다 디스플레이의 해상도가 5-10배 높고 필름의 두께에 관계없이 적용할 수 있어 디스플레이 고급화 트렌드에 적합한 것으로 평가되고 있다. 광미세가공기술은 이미 반도체 등에 활용되고 있는데 반도체 칩의 소형화에 대용량화 추세에 따라 점차 각광받고 있는 것으로 나타났다. 광미세가공기술은 광원을 이용해 반도체 Wafer 상 원하는 위치에 미세 패턴을 형성하는 기술로 노광장치에 의해 구현되며 미국과 일본이 특허를 주도하고 있는 상황에서 국내에서도 노광장치 관련 특허출원이 증가하고 있다. 특히, 노광장치의 Illuminator, Reticle System, Plate Handler, Edge Exposure 등 핵심부에 대한 기술특허 출원실적은 2001-05년 한국 475건, 미국 549건, 일본 468건으로 1985-2000년 한국 537건, 미국 1168건, 일본 1609건에 비해 국내 점유율이 크게 확대된 것으로 파악되고 있다. <화학저널 2006/07/27> |
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