일본 AGC가 세리아 CMP(화학적 기계연마) 세정액 양산을 추진한다.
AGC는 세리아(Ceria) CMP 슬러리에 최적화된 포스트 CMP 세정액 공급을 확대함으로써 자사의 세리아 CMP와 시너지를 창출할 수 있을 것으로 기대하고 있다.

세리아 슬러리는 소자 분리(STI), 층간 절연막(ILD), 폴리실리콘(Polysilicon) 막 등 전공정 연마공정에 사용된다. AGC는 무기・유기 양쪽 모두 노하우를 보유하고 있으며 세리아 합성부터 입자 설계, 약품 설계까지 종합적으로 제안할 수 있다.
AGC는 최첨단 반도체용 세리아 슬러리에서 경쟁력을 지닌 것으로 평가된다. 일본・타이완・미국에서 세리아 CMP 슬러리를 생산해 현지생산-현지소비 전략으로 수요기업의 니즈에 대응하고 있으며, 2023년에는 타이완 신주시(Hsinchu)에 세리아 CMP 슬러리 R&D 센터를 설치해 개발체제를 강화했다. 
최근에는 후공정에서도 미세화가 요구되면서 첨단 패키징을 중심으로 CMP 슬러리 수요가 증가하고 있다. AGC도 하이브리드 접합, 재배선층(RDL) 등을 겨냥해 개발에 착수했다. AGC는 연마속도가 빠르고 평탄성이 우수해 높은 생산성을 구현할 수 있는 세리아의 강점을 살려 시장을 공략하고 있다. 
AGC는 AGC는 세리아 슬러리의 강점인 연마속도와 평탄성을 무기로 최첨단 반도체 시장을 개척하면서 포스트 CMP 세정액을 세트로 제안할 계획이다. 슬러리와 세정액을 세트로 사용하면 더 빠르게 잔사물 없이 세정이 가능하다.
세리아 CMP 슬러리 고도화를 타고 포스트 CMP 세정액 개발 경쟁이 격화되는 가운데 AGC는 세정액 사업이 본궤도에 오르면 경쟁기업이 생산하는 세리아 CMP 슬러리와 실리카(Silica) CMP 슬러리 용으로도 사업을 확대할 수 있을 것으로 기대하고 있다. 반도체 후공정용 거래 문의도 증가함에 따라 개발에 착수한 것으로 알려졌다.