Photoresist, DUV 비중 확대
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국내 포토레지스트(Photoresist) 시장 판도가 바뀌고 있다. 포토레지스트는 사진식각(Photoetching)에 사용되는 감광성고분자로 반도체와 PDP·TFT-LCD 제조, 인쇄, 인쇄회로기판(PCB), 정밀금속 가공제품 제조 등에 사용된다. 반도체용 포토레지스트는 용해특성에 따라 Negative(노광에 의한 가교·광이동량화의 반응으로 노광부의 용해성이 떨어짐)와 Positive (노광에 의해 분해·분자쇄절단 등이 일어나 노광부의 용해성이 증가)로 분류되며 고집적도 반도체에는 Positive용이 주로 사용된다. 아울러 감응하는 빛의 파장에 따라 근자외선(Near UV), 원자외선(Deep UV), EUV (Extreme UV), E-Beam(Electron Beam), X-Ray에 감응하는 포토레지스트로의 분류도 가능하다. 표, 그래프 | 국내 반도체 전공정재료 시장전망 | 세계 전공정재료 시장현황 | 세계 반도체재료 매출전망(2001) | <화학저널 2002/6/3> |
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