프레온가스 대체물질 개발 “시급”
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특허청, 대체물질 출원 증가 … 내국인 특허출원 41건에 외국인 129건 오존층 파괴의 주 원인으로 지목되고 있는 프레온 가스 및 수소화염화불화탄소(HCFF) 대체물질에 대한 특허출원이 꾸준히 증가하고 있는 것으로 나타났다.특허청에 따르면, 오존파괴물질인 프레온가스 및 HCFC(Hydrochlorofluorocarbon)의 제조방법 및 제품 특허출원은 2004년 이후 감소하고 있는 반면, 오존층에 전혀 영향을 미치지 않는 대체물질인 수소화불화탄소(HFC)와 과불화탄소(PFC)의 제조방법 및 제품 특허출원이 2006년 급격히 증가했다.
정부는 1992년부터 오존파괴물질 수입ㆍ수입업자의 부담금을 재원으로 한 <특정물질사용 합리화기금>을 조성하고 있는데 2007년에는 84억원의 기금예산을 활용해 대체물질의 생산 및 이용에 관한 <시설대체자금융자>, <대체물질기술개발 출연> 및 <대체물질기술개발 기술지도사업> 등을 지원했다. <김 은 기자> 표, 그래프: | 수소화불화탄소 및 과불화탄소 제조방법과 이용제품 출원 동향 | <화학저널 2007/07/13> |
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