포스텍 이태우 교수팀, 화학기상 증착법 활용 … 웨어러블 상용화 기여
화학뉴스 2014.04.28
국내 연구진이 그래핀(Graphene) 나노리본을 저비용으로 단시간에 제작하는 기술을 개발했다.
미래창조과학부는 포항공과대학교(포스텍) 신소재공학부 이태우 교수 연구팀이 정렬 및 패터닝(Patterning)이 가능한 유기 나노선을 이용해 저비용·단시간의 그래핀 나노리본 제작 기술을 개발했다고 4월28일 발표했다. 연구팀이 개발한 기술을 활용하면 메모리‧디스플레이 등 고집적 전자회로에 활용할 수 있는 그래핀 나노리본을 원하는 모양으로 넓은 면적에 걸쳐 쉽게 제작할 수 있는 것으로 알려졌다. 그래핀 나노리본의 우수한 전기적 특성과 그래핀 특유의 투명함, 유연함을 활용해 웨어러블(Wearable) 전자기기 및 접히는 디스플레이의 상용화를 앞당길 수 있을 것으로 기대되고 있다. 그래핀은 차세대 고집적 유연 전자소자의 핵심 물질로 주목받고 있지만 밴드갭(Band Gap)이 없어서 밴드갭을 활용하는 반도체 특성의 전자장치에는 사용하기 어렵다는 한계가 있었다. 그래핀에 밴드갭을 부여하는 방법이 있지만 공정 단가가 높고 제작시간이 길어 산업적인 한계가 있었다. 연구팀은 화학기상증착법을 통해 실리콘 기판 위에 그래핀을 형성하고 그 위에 유기 나노선을 원하는 위치에 정렬시켰다. 정렬 후 산소 플라스마 식각 과정을 거쳐 유기 나노선의 형태에 따라 나노리본을 제작했다. 이태우 교수는 “기존 방식과 달리 원하는 위치에 원하는 길이의 그래핀 나노리본을 대면적으로 제작하는데 성공했다”며 “저비용으로 간결한 공법이 가능함에 따라 그래핀 나노리본을 이용한 전자소자 연구를 더욱 가속화 시킬 것”이라고 말했다. 이어 “연구 성과는 2020년 50조원 수준으로 성장할 것으로 예상되는 웨어러블 컴퓨터 및 플렉시블(Flexible) 전자소자 등을 구현하기 위한 원천기술로 사용될 것”이라고 강조했다. <화학저널 2014/04/28> |
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