산업부, 5년간 150억원 투입 … 삼성전자‧SK하이닉스 집중지원
화학뉴스 2014.02.20
정부와 국내 반도체기업이 손잡고 반도체 소재 원천기술 개발에 나선다.
산업통상자원부(장관 윤상직)는 2월20일 삼성전자·SK하이닉스·오로스테크놀로지·넥스틴·테스 등 5개 반도체기업과 미래 반도체 소재 기술개발에 2014년부터 5년간 매년 30억원씩 총 150억원을 공동투자한다는 내용의 양해각서(MOU)를 체결했다. 반도체분야 차세대 기술개발 2단계 사업으로 반도체 소재와 검사·측정, 공정관련 원천기술로 전·후방 산업에 미치는 영향이 클 것으로 기대되고 있다. 2013-2017년 250억원이 투입되는 1단계 사업은 대기업 중심의 반도체 소자 기술개발이나, 2단계 사업에서는 오로스테크놀로지 등 중소 장비기업이 참여하는 등 참여대상과 개발범위를 크게 확대했다. 투자금액은 정부와 반도체기업이 절반씩 부담할 방침이며 삼성전자가 7억5000만원, SK하이닉스가 5억원, 나머지 3곳이 1억원씩 투자해 1·2단계 사업에 2014년에만 80억원을 투입할 예정이다. 국내 반도체산업은 2013년 3년 만에 수출 1위에 재등극했으며, 난공불락으로 여겨지던 일본을 제치고 세계시장 점유율 2위에 올라서는 등 의미있는 성과를 나타냈으나 상대적으로 원천기술은 취약한 편이다. 이에 따라 핵심기술 개발을 통해 반도체 소자·소재의 국산화율을 높이고 차세대 반도체 시장을 선점하기 위해 공동사업을 추진하고 있다. 산업통상자원부 관계자는 “일본 사례에서 보듯 세계적인 역량을 보유하더라도 지속적인 혁신기술 개발이 없으면 경쟁국에게 추월당한다”며 “핵심기술 역량을 한 단계 끌어올려 반도체의 안정적 성장기반을 구축할 것”이라고 강조했다. <화학저널 2014/02/20> |
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