화학뉴스

EUV(극자외선) 레지스트 시장이 급속도로 확대되고 있다.
연산에 사용하는 로직 뿐만 아니라 D램(DRAM) 프로세스 미세화에도 EUV 레지스트가 요구되고 있기 때문이다.
도요고세이(Toyo Gosei)는 EUV/ArF(불화아르곤) 레지스트 수요가 2026년까지 2배 이상 확대될 것으로 예상하고 있다.
일본기업이 글로벌 시장을 독점하고 있는 고부가가치 EUV 레지스트는 앞으로 양산이 가속화됨에 따라 시장점유율 경쟁이 치열해질 것으로 예상되고 있다.
금속 레지스트를 생산하는 미국 인프리아(Inpria)를 인수한 JSR은 2021년 4-9월 EUV 레지스트 매출이 전년동기대비 2배로 늘었으며 2022년 1-3월에는 3나노미터 프로세스 대응제품을 출하할 예정이다.
TOK(Tokyo Ohka Kogyo)도 2021년 1-9월 EUV 레지스트 및 실장소재가 호조를 나타냈다.
레지스트 생산기업에 감광제, 폴리머를 공급하는 도요고세이는 레지스트 수요 신장에 대응하기 위해 치바(Chiba) 공장 인근부지를 증설투자용으로 확보했다.
레지스트 주변 약액도 호조를 나타내고 있다.
아데카(ADEKA)는 EUV, ArF 레지스트용 광산발생제(PAG) 매출이 늘었으며 닛산케미칼(Nissan Chemical)은 EUV용 하층막이 크게 성장하고 있어 2021년 하드마스크를 포함한 매출이 40% 이상 증가한 것으로 추정하고 있다.
호야(Hoya)는 4-9월 EUV 광으로 배선 패턴을 형성하기 위한 전반사형 포토마스크용 마스크블랭크 매출이 40% 증가함에 따라 고품질제품 생산에 주력하고 있으나 싱가폴 공장 생산능력이 한계에 도달함에 따라 더 이상 생산을 확대하기 어려운 것으로 알려졌다.
포토마스크 방진커버인 페리클은 미쓰이케미칼(Mitsui Chemicals)이 신규 플랜트를 가동했다.
미쓰이케미칼은 네덜란드 ASML과 협력함에 따라 EUV 페리클 시장에서 높은 점유율을 확보할 수 있을 것으로 기대하고 있다.
실리콘웨이퍼 생산기업도 수요 신장이 계속될 것으로 판단하고 생산을 확대하기 시작했다.
우선 섬코는 일본 뿐만 아니라 해외에서도 투자를 추진하고 있으며 신에츠케미칼(Shin-Etsu Chemical)은 수급난 해소를 목표로 에피택시얼웨이퍼(Epitaxial Wafer) 등의 생산을 늘리기로 결정했다.
실리콘웨이퍼 소재인 폴리실리콘(Polysilicone)을 공급하는 도쿠야마(Tokuyama)는 원료인 금속실리콘 가격이 한달만에 7배 폭등함에 따라 가격 인상 작업에 들어갔다.
섬코는 2021년 10월 실리콘웨이퍼 생산을 확대하기 위해 규슈(Kyushu) 공장에 2015억엔, 자회사인 Sumco Techxiv에 272억엔을 투자할 방침이라고 발표했다.
섬코와 FPG(Formosa Plastics Group)가 합작으로 설립한 Formosa Sumco Technology도 11월 타이완 윈린(Yunlin) 소재 마이랴오(Mailiao)에 약 160억엔을 투입해 신규 공장을 건설하기로 결정했다고 발표했다. (J)