화학뉴스

7월5일 오전 8시22분께 경기도 이천시 부발읍 소재 SK하이닉스 D램 반도체 공정라인에서 이산화규소(Silicone Sioxide) 가스가 누출되는 사고가 발생했다.
가스안전공사에 따르면, SK하이닉스 이천공장에서 반도체 공정에 필요한 가스 공급배관 이음새가 노후화되면서 생긴 틈으로 이산화규소 가스가 누출되는 사고가 발생한 것으로 나타났다.
가스안전공사 관계자는 “반도체 확산 A공장의 중화처리시설(배기덕트)에서 원인미상의 냄새가 발생해 작업자가 신고한 사항으로 가스가 누출되진 않았고 경보기도 작동되지 않았다”고 말했다.
누출 사고로 현장에서 작업하던 근로자 2명이 두통과 구토 증세를 보여 인근 병원으로 옮겨져 치료를 받았고, 작업장에 함께 있던 근로자 39명 등도 병원 치료를 받았으나 경미한 증상으로 알려졌다.
소방당국은 이산화규소는 불산, 실란가스 등과 같은 치명적인 유해성은 없다고 말했다.
SK하이닉스는 사고 직후 부상자들을 병원으로 이송한 후 가스 공급배관 이음새를 교체해 1시20분경 조치를 완료했다.
SK하이닉스는 2013년 3월22일 청주공장에서 염소가스가 누출된 데 이어 3월28일 청주공장에서 감광액이 누출되는 사고가 재차 발생하자 2013년 5월 환경 안전 종합대책을 발표한 바 있다.