일본, 삼불화질소 1665톤으로 27.2% 급증 … 아시아 급성장
화학뉴스 2020.01.09
특수가스는 아시아를 중심으로 반도체 소재용 수요가 증가하고 있다.
특수가스는 고순도 가스와 반도체 소재 가스, 표준가스 등 3종류로 분류하고 있으며 일본 산업·의료가스협회에 따르면, 반도체 소재 가스는 2018년 대부분 품목에서 수요가 증가한 가운데 10% 이상 감소한 품목은 거의 없는 것으로 파악되고 있다.
아울러 아시아 전체적으로 반도체 소재 가스 수요가 꾸준히 증가함에 따라 일본 생산기업들의 해외활동도 확대되고 있다.
반도체산업에서 사용하는 반도체 소재 가스는 고집접화 등에 따른 프로세스 다양화에 대응해 종류가 많고 화학기상성장법(CVD), 에칭, 이온 주입, 챔버 클리닝 등 각기 다른 프로세스에서 중요한 역할을 하고 있다.
일본 산업·의료가스협회가 통계 대상으로 삼은 전체 21종의 가스 중 수요량이 가장 많은 것은 고순도 암모니아(Ammonia) 가스로, LED(Light Emitting Diode)와 액정패널 등 제조공정에서 질화막 형성에 사용하고 있다.
다만, 2018년 수요는 2901톤으로 전년대비 7.3% 줄어들며 3년 연속 감소세를 나타냈을 뿐만 아니라 3000톤대가 붕괴됐다.
2번째로 수요가 큰 품목은 삼불화질소(NF3)로, 2018년 수요가 1665톤으로 27.2% 급증했다. 액정패널 세정용이 주류를 이루고 있다.
반대로 CVD 프로세스에서 절연산화막 형성에 사용하는 일산화이질소(N2O)는 1030톤으로 12.4% 감소했다.
1000톤 이상의 수요를 갖춘 품목은 암모니아 가스, NF3, N2O 뿐이며 나머지는 반도체 에칭에 사용하는 팔불화사이클로부탄(C4F8)이 52.1%, 성막용 디클로로실란(Dichlorosilane)이 20.1% 증가했다.
또 보호막과 절연막 등에 사용하는 TEOS((C2H5O)4Si)가 22.3%, CVD 소재 가스인 육불화텅스텐(WF6)이 24.3% 증가한 것으로 나타났다. (K)
표, 그래프: <일본의 반도체 소재 가스 내수(2018)>
<화학저널 2020/01/09>
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