2026년 06월 12일 (금)
켐트로닉스, 반도체용 PGMEA 개발

평택공장에서 초고순도 5N 양산 개시 … 2025년 영업이익 395억원 예상

강윤화 책임기자
화학뉴스 2025.09.23

켐트로닉스(대표 김응수)가 반도체 극자외선(EUV) 포토레지스트 공정용 PGMEA(Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate) 국산화에 성공했다.


켐트로닉스는 평택공장에서 순도 99.999%(5N)의 초고순도 PGMEA를 양산해 EUV 공정을 사용하는 국내외 반도체 파운드리에게 공급하기 시작했다.
PGMEA는 EUV 공정에서 회로 패턴을 형성하는 포토레지스트의 약 70-80%를 차지하는 용제이며 국내 수요기업들은 원래 일본산을 주로 사용했으나 2019년 일본이 반도체 소재 수출규제에 나서며 국산화 열풍이 불었다.
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