DuPont, C4F8 50만파운드 플랜트 건설
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DuPont은 2001년중으로 네덜란드 Dordrecht에 건설중인 C4F8 50만파운드 플랜트를 가동할 계획이다. DuPont은 2000년 여름부터 반도체 Etching용 Chemical Vapor Deposition Chamber Cleaning을 공급해왔다. 반도체 생산기업들은 지구온난화 가스 배출량을 줄이기 위해 C4F8을 사용하고 있는데, DuPont은 C2F6 및 CF4 대체물질로 C4F8을 공급하고 있다. C4F8은 반도체용으로 사용되는 Nitrogen Trifluoride (NF3)의 대체물질로 NF3보다 가격이 낮아 인기를 끌고 있다. DuPont은 2001년3월 미국 뉴저지주 Chambers Works 소재 C2F6 50만파운드 증설공사도 마무리한 바 있다. DuPont은 NF3 등장에도 불구하고 가격이 높고 공급이 턱없이 부족해 C2F6 수요가 계속 증가할 것으로 예상하고 있다. 1999년에도 C2F6 생산능력을 50만파운드 증설한 바 있다. <CW 2001/04/18> <화학저널 2001/6/11> |
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