화학뉴스

OCI머티리얼즈가 반도체 구조의 3D화의 직접적인 수혜를 받을 것이라는 주장이 제기됐다.
미래에셋투자증권 도현우 연구원은 “OCI머티리얼즈는 NF3(삼불화질소), SiH4(모노실란), WF6(육불화텅스텐), Si2H6(다이실란) 등이 반도체 구조의 3D화로 인한 수혜를 입을 것”이라고 주장했다.
NF3, SiH4 등 특수 가스는 반도체, LCD(Liquid Crystal Display), 태양전지 등의 제조공정에 투입된다.
NF3는 화학증착(CVD) 과정에서 산화물 등 잔류물 제거공정에 사용되며 SiH4는 화학증착의 실리콘(Silicon) 증착에 사용되고 있다.
반도체의 트랜지스터가 수직 구조화 되면 미세화를 위한 노광공정보다는 트랜지스터를 3D로 만들거나 쌓을 때 필요한 증착과 식각 공정의 중요도가 높아지고 단계가 많아지게 된다.
따라서 증착과 식각에 필요한 화학증착 공정 횟수와 투입되는 특수 가스의 필요성과 수요도 증가하게 된다.
도현우 연구원은 “2013년 하반기 이후 특수가스 생산기업들이 생산능력을 잇따라 확대하고 있기 때문에 가스 수급은 양호할 것”이라며 “반도체와 LCD 등 전방 산업의 수요가 꾸준히 증가하고 있기 때문에 OCI머티리얼즈의 특수가스 수요도 안정적으로 증가하고 있다”고 설명했다.
이어 “안정적인 전방 수요 증가와 양호한 수급 등의 영향으로 OCI머티리얼즈는 2015년 영업실적이 큰 폭으로 개선될 것”이라며 “2015년 매출액은 2633억원으로 2014년에 비해 23%, 영업이익은 512억원으로 137% 급증하고 순이익은 322억원으로 227% 크게 늘어날 것”이라고 전망했다.
아울러 “특수가스 생산기업들의 생산능력 확대 계획은 2015년에도 지속될 가능성이 높다”고 말했다.