수축률 적은 자외선 경화형 개발 … 시간차 활용한 용도 개발 적극화
화학뉴스 2014.11.13
Shin-Etsu Chemical은 신규개발한 자외선 경화형 액상 실리콘고무 시장개척을 가속화한다.자외선을 조사하면 경화하기까지 다소 시간차이가 발생하기 때문에 미리 빛을 쪼여 자외선을 투과시키지 않는 물질의 내부도 경화할 수 있는 것으로 알려졌다. 이에 따라 열경화형이나 기존의 자외선 경화형으로 불가능했던 다양한 가공 방법 및 용도 전개가 가능해질 것으로 기대되고 있다. 선수축률이 적고 대부분 변화하지 않아 정밀도가 높은 전사 성능을 실현할 수 있는 것도 특징이다. 일부에서 판매를 시작했으며 국내외에서 폭넓은 용도에서 제안활동을 강화할 방침이다. 신제품은 Shin-Etsu Chemical이 독자 개발한 촉매에 300-400나노미터의 자외선을 쪼이면 촉매가 활성화돼 가교 경화반응을 일으키는 것으로 알려졌다. 적산 에너지 2000mJ/㎡의 실온에서 경화하며 자외선을 쪼인 이후 가열해 경화속도를 가속화할 수 있는 장점이 있다. 기존의 자외선 경화 수지는 빛을 쪼인 순간 경화하며 빛이 닿지 않은 부분은 경화되지 않는 특징이 있었다. 자외선을 투과하는 물질 밑에 기존 자외선 경화수지를 놓으면 위에서 빛을 쪼이면 경화되지만 투과하지 않는 물질은 경화되지 않는다. 신제품은 자외선으로 활성화된 촉매가 가교 경화 반응을 일으킴에 따라 자외선을 쪼이고 굳을 때 까지 실온에서 약 10분 전후의 시간차이가 발생한다. 따라서 미리 자외선을 조사함으로써 자외선을 투과하지 않는 물질의 내부에도 가교경화를 일으킬 수 있고 빛을 쏘인 후에 가열하면 경화시간도 단축할 수 있다. 뿐만 아니라 시간차이를 효과적으로 활용하면 열경화형 및 기존의 자외선 경화형으로 불가능했던 가공방법이나 용도개척 등이 가능할 것으로 기대하고 있다. 열경화형 액상 실리콘고무는 가열시 확대됐다가 경화되면서 수축하는 성질이 있고, 자외선 경화형 액상 실리콘고무는 광중합 개시제 첨가가 필수적이기 때문에 가공공법이 축소중합으로 한정되는 등 제조과정의 축소현상이 문제로 제기돼왔다. 나노임프린트(Nanoimprint)용 소프트 몰드 소재, 바이오칩, 전사 인쇄용 블랭킷(Blanket)소재를 비롯해 다양한 분야에서 용도를 개척할 방침이다. <화학저널 2014/11/13> |
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