BASF는 2001년 1월말 독일 Ludwigshafen 소재 HDA(Hydroxylamine) Free Base 플랜트 생산능력을 1700톤에서 5700톤으로 4000톤 증설했다. 원래 계획보다 2달 앞당긴 것이다. BASF는 일본 Nissin Chemical의 Ojima 소재 HDA 8000톤 플랜트가 폭발한 후 세계 유일의 전자용 HDA 생산기업으로 활약했다. HDA는 Photoresist Stripper의 Agent 세척제 및 Dry-Metal-Etch Residue Remover로 사용된다. Nissin은 현재 HDA 플랜트 재건을 추진중으로 2001년말 5000톤 플랜트를 가동할 방침이다. Honeywell도 2002년초 가동 예정으로 버지니아주 Hopewell에 고순도 HDA 400만파운드 플랜트를 건설할 계획인데, Hpoewell 소재 Pilot 플랜트는 2001년4월 가동할 예정이다.<CW 2001/02/21> <화학저널 2001/4/2> |
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